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UV激光曝光系统

产品介绍 产品特点 产品参数 产品应用 样品图片
扫描曝光方式特点:  
1.光束垂直高度＜=0.23°； 
2.工作幅面一般100mm×100mm,可定制； 
3.光斑能量密度高； 
4.不需掩膜，可精确曝光三维图形； 
5.可快速修改任意曝光图形。 

掩膜曝光方式特点：

1.光束直径可达φ100mm,可定制； 
2.光束发散角小，光束准直度可达到5µrad; 
3.可精确曝光三维图形； 
4.对环境温度要求不高。
应用领域：FPC、数码产品、印刷等。
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